商业秘密与专利的主要差异体现在以下几个方面：
1. 法律地位：
- 专利：是一种经过法律程序授权并受到专利法保护的发明创造，具有独占性和排他性。
- 商业秘密：虽然也受到法律保护，但通常没有像专利那样的法律授权和明确的权利范围。
2. 保密性要求：
- 专利：需要公开其技术方案以获得专利权，但在申请过程中和授权后，需要保持一定的保密义务。
- 商业秘密：强调在不为公众所知悉的前提下进行保护，一旦泄露可能需要承担法律责任。
3. 保护期限：
- 专利：发明专利的保护期限通常较长，一般为20年，而实用新型和外观设计的保护期限相对较短。
- 商业秘密：保护期限可以非常灵活，取决于保密措施的有效性和实际情况。
4. 申请程序：
- 专利：需要向国家知识产权局提交专利申请，并经过审查、授权等程序。
- 商业秘密：无需申请，只需采取合理的保密措施即可。
5. 权利取得方式：
- 专利：通过申请和审查获得，需要支付一定的费用。
- 商业秘密：通过保密措施自然取得，无需支付费用。
至于具体的专利和商业秘密的差异，可以从以下几个方面来理解：
1. 技术信息：
- 专利：涉及的是经过技术加工、提炼并取得专利权的具体的技术信息。
- 商业秘密：可能包括各种技术信息，如配方、工艺流程、客户名单等，但不一定构成专利技术。
2. 公开性：
- 专利：技术方案在授权前需要公开，以便进行审查和公众监督。
- 商业秘密：不需要公开，只需保持内部保密。
3. 权利范围：
- 专利：具有明确的权利范围，可以限制他人在一定范围内使用或披露。
- 商业秘密：权利范围相对模糊，主要依赖于保密措施的有效性。
4. 法律保护：
- 专利：通过专利法进行保护，有明确的法律责任和义务。
- 商业秘密：通过合同法和保密协议进行保护，法律责任主要取决于保密义务的履行情况。
总之，专利和商业秘密在法律保护、保密要求、申请程序等方面存在显著差异。在实际应用中，企业应根据自身需求选择合适的保护方式。
